လေဆာသန့်စင်နည်းပညာအင်ဂျင်နီယာနယ်ပယ်တွင် လေဆာနည်းပညာကို အောင်မြင်စွာအသုံးချခြင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်း၏အခြေခံမူသည် လေဆာရောင်ခြည်များနှင့် workpiece substrates များတွင်ကပ်နေသော ညစ်ညမ်းပစ္စည်းများအကြား အပြန်အလှန်ဆက်သွယ်မှုကိုဖြစ်စေရန် လေဆာများ၏ မြင့်မားသောစွမ်းအင်သိပ်သည်းဆကို အသုံးချသည်။ ညစ်ညမ်းပစ္စည်းများကို ချက်ချင်းအပူချဲ့ထွင်ခြင်း၊ အရည်ပျော်ခြင်း၊ ဓာတ်ငွေ့အငွေ့ပျံခြင်းနှင့် အခြားယန္တရားများမှတစ်ဆင့် substrates မှ ခွဲထုတ်သည်။ မြင့်မားသောစွမ်းဆောင်ရည်၊ ပတ်ဝန်းကျင်နှင့်လိုက်လျောညီထွေဖြစ်မှုနှင့် စွမ်းအင်ချွေတာမှုတို့ဖြင့် လေဆာသန့်ရှင်းရေးနည်းပညာကို တာယာမှိုသန့်ရှင်းရေး၊ လေယာဉ်ကိုယ်ထည်ဆေးသားဖယ်ရှားခြင်း၊ ယဉ်ကျေးမှုအမွေအနှစ်ပြန်လည်ထူထောင်ရေးနှင့် အခြားနယ်ပယ်များတွင် အောင်မြင်စွာအသုံးချခဲ့သည်။
ရိုးရာသန့်ရှင်းရေးနည်းပညာများတွင် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာပွတ်တိုက်မှုသန့်ရှင်းရေး (သဲမှုန်ဖြင့် ပွတ်တိုက်ခြင်း၊ မြင့်မားသောဖိအားရေဂျက်ဖြင့် သန့်ရှင်းရေးလုပ်ခြင်း၊ စသည်)၊ ဓာတုချေးခြင်းသန့်ရှင်းရေး၊ အသံလှိုင်းဖြင့် သန့်ရှင်းရေး၊ ရေခဲခြောက်သန့်ရှင်းရေးနှင့် အခြားအရာများ ပါဝင်သည်။ ဤနည်းပညာများကို စက်မှုလုပ်ငန်းများတွင် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုကြသည်။ ဥပမာအားဖြင့်၊ သဲမှုန်ဖြင့် ပွတ်တိုက်ခြင်းသည် မာကျောမှုအမျိုးမျိုးရှိသော ပွတ်တိုက်ပစ္စည်းများကို ရွေးချယ်ခြင်းဖြင့် ဆားကစ်ဘုတ်များပေါ်ရှိ သတ္တုချေးအစက်အပြောက်များ၊ မျက်နှာပြင်ချိုင့်ခွက်များနှင့် conformal coatings များကို ဖယ်ရှားနိုင်သည်။ ဓာတုချေးခြင်းသန့်ရှင်းရေးကို စက်ပစ္စည်းမျက်နှာပြင်ဆီအကြေးခွံဖယ်ရှားခြင်း၊ boiler အကြေးခွံသန့်ရှင်းရေးနှင့် ရေနံပိုက်လိုင်းပိတ်ဆို့ခြင်းကို ဖယ်ရှားခြင်းအတွက် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုကြသည်။ ရင့်ကျက်သော်လည်း ရိုးရာနည်းလမ်းများတွင် သိသာထင်ရှားသော အားနည်းချက်များရှိသည်- သဲမှုန်ဖြင့် ပွတ်တိုက်ခြင်းသည် ကုသထားသောမျက်နှာပြင်များကို အလွယ်တကူပျက်စီးစေပြီး ဓာတုချေးခြင်းသန့်ရှင်းရေးသည် ပတ်ဝန်းကျင်ညစ်ညမ်းမှုကို ဖြစ်စေပြီး မှားယွင်းစွာလည်ပတ်ပါက အောက်ခံများကို ချေးနိုင်သည်။ လေဆာသန့်ရှင်းရေးပေါ်ပေါက်လာခြင်းသည် သန့်ရှင်းရေးနည်းပညာတွင် တော်လှန်ရေးတစ်ခုကို အမှတ်အသားပြုသည်။ လေဆာများ၏ မြင့်မားသောစွမ်းအင်သိပ်သည်းဆ၊ တိကျမှုနှင့် ထိရောက်သောထုတ်လွှင့်မှုကို အသုံးပြုခြင်းဖြင့် လေဆာသန့်ရှင်းရေးသည် သန့်ရှင်းရေးစွမ်းဆောင်ရည်၊ တိကျမှုနှင့် နေရာချထားမှုတို့တွင် ရိုးရာနည်းလမ်းများထက် သာလွန်သည်။ ၎င်းသည် ဓာတုသန့်ရှင်းရေးမှ ပတ်ဝန်းကျင်ညစ်ညမ်းမှုကို ဖယ်ရှားပေးပြီး အောက်ခံများကို ပျက်စီးမှုမဖြစ်စေပါ။
လေဆာသန့်ရှင်းရေး၏ အခြေခံမူများ
လေဆာသန့်စင်ခြင်းဆိုတာ အတိအကျဘာလဲ။ ၎င်းသည် လေဆာရောင်ခြည်ဖြင့် အစိုင်အခဲ (သို့မဟုတ် တစ်ခါတစ်ရံ အရည်) မျက်နှာပြင်များမှ ပစ္စည်းများဖယ်ရှားခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်ကို ရည်ညွှန်းသည်။ လေဆာစီးဆင်းမှုနည်းသောအခါတွင် စုပ်ယူထားသောလေဆာစွမ်းအင်သည် ပစ္စည်းများအပူပေးပြီး အငွေ့ပျံခြင်း သို့မဟုတ် sublimation ဖြစ်စေသည်။ လေဆာစီးဆင်းမှုမြင့်သောအခါတွင် ပစ္စည်းများသည် ပလာစမာအဖြစ်သို့ ပြောင်းလဲလေ့ရှိသည်။ လေဆာသန့်စင်ခြင်းသည် ပစ္စည်းဖယ်ရှားရန်အတွက် pulsed laser များကို အသုံးပြုလေ့ရှိသော်လည်း၊ continuous-wave laser beams များသည် လုံလောက်သောပြင်းထန်မှုတွင် ပစ္စည်းများကို ဖယ်ရှားနိုင်သည်။ 200 nm ခန့်ရှိသော လှိုင်းအလျားရှိသော deep ultraviolet excimer laser များကို အဓိကအားဖြင့် photoablation အတွက် အသုံးပြုသည်။
အနက်ကလေဆာစွမ်းအင်စုပ်ယူမှုနှင့် pulse တစ်ခုချင်းစီမှ ဖယ်ရှားလိုက်သော ပစ္စည်းပမာဏသည် ပစ္စည်း၏ optical ဂုဏ်သတ္တိများအပြင် laser wavelength နှင့် pulse duration ပေါ်တွင် မူတည်ပါသည်။ pulse တစ်ခုချင်းစီမှ ဖယ်ရှားလိုက်သော ပစ်မှတ်၏ စုစုပေါင်းဒြပ်ထုကို ablation rate အဖြစ် သတ်မှတ်သည်။ scanning speed နှင့် line coverage ကဲ့သို့သော laser radiation ဝိသေသလက္ခဏာများသည် ablation လုပ်ငန်းစဉ်ကို သိသိသာသာ လွှမ်းမိုးသည်။
လေဆာသန့်ရှင်းရေးနည်းပညာအမျိုးအစားများ
၁) လေဆာ အခြောက်ခံ သန့်ရှင်းရေး
လေဆာခြောက်သွေ့သန့်ရှင်းရေးပါဝင်သည်အလုပ်အပိုင်းအစများကို တိုက်ရိုက် pulsed laser ဖြင့် ထိတွေ့ခြင်း။ ညစ်ညမ်းပစ္စည်းများ သို့မဟုတ် အောက်ခံများသည် လေဆာစွမ်းအင်ကို စုပ်ယူပြီး ၎င်းတို့၏ အပူချိန်ကို မြှင့်တင်ကာ အပူချဲ့ထွင်မှု သို့မဟုတ် အောက်ခံအပူတုန်ခါမှုကို ဖြစ်ပေါ်စေပြီး ညစ်ညမ်းပစ္စည်းများကို အောက်ခံများမှ ခွဲထုတ်သည်။ ၎င်းသည် အခြေအနေနှစ်မျိုးတွင် ဖြစ်ပေါ်သည်- မျက်နှာပြင်ညစ်ညမ်းပစ္စည်းများသည် လေဆာစွမ်းအင်ကို စုပ်ယူပြီး ချဲ့ထွင်ခြင်း သို့မဟုတ် အောက်ခံများသည် စွမ်းအင်ကို စုပ်ယူပြီး အပူဖြင့် တုန်ခါခြင်း။
၁၉၆၉ ခုနှစ်တွင် SM Bedair နှင့်အဖွဲ့သည် ရိုးရာမျက်နှာပြင်ကုသမှုများ (အပူကုသမှု၊ ဓာတုချေးခြင်း၊ သဲဖြင့်ဖောက်ခြင်း) အားလုံးတွင် ကန့်သတ်ချက်များရှိကြောင်း တွေ့ရှိခဲ့သည်။ အာရုံစူးစိုက်ထားသောလေဆာများ၏ မြင့်မားသောစွမ်းအင်သိပ်သည်းဆသည် မျက်နှာပြင်ပစ္စည်းများကို မပျက်စီးစေဘဲ အငွေ့ပျံစေနိုင်ကြောင်း ၎င်းတို့က လေ့လာတွေ့ရှိခဲ့သည်။ ပါဝါသိပ်သည်းဆ 30 MW/cm² ရှိသော Q-switched ruby laser သည် ဆီလီကွန်မျက်နှာပြင်များမှ ညစ်ညမ်းပစ္စည်းများကို မျက်နှာပြင်မပျက်စီးစေဘဲ သန့်ရှင်းနိုင်ကြောင်း စမ်းသပ်ချက်များအရ အတည်ပြုခဲ့ပြီး လေဆာခြောက်သွေ့စွာ သန့်ရှင်းရေးလုပ်ခြင်း၏ ပထမဆုံးအကောင်အထည်ဖော်မှုကို အမှတ်အသားပြုခဲ့သည်။
အလုံးစုံသန့်ရှင်းရေးနှုန်းကို အောက်တွင်ပြထားသည့်အတိုင်း ဖလင်အပျက်အစီးများ ခွာချနှုန်းဖြင့် ဖော်ပြနိုင်သည်။
(ဖော်မြူလာ- ε—လေဆာ pulse energy index; h—ညစ်ညမ်းမှု film thickness index; E—film elastic modulus index)
၂) လေဆာဖြင့် စိုစွတ်သော သန့်ရှင်းရေး
ပဲ့တင်ထပ်လေဆာ ရောင်ခြည်မထိမီ၊ အရည်ဖလင်တစ်ခုကို workpiece မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် ကြိုတင်ဖုံးအုပ်ထားသည်။ လေဆာစွမ်းအင်သည် ဖလင်ကို လျင်မြန်စွာအပူပေးပြီး အငွေ့ပျံစေကာ၊ ညစ်ညမ်းသောအမှုန်အမွှားများကို substrate မှ ခွာထုတ်သည့် ချက်ချင်း shockwave ကို ဖြစ်ပေါ်စေပါသည်။ ဤနည်းလမ်းသည် substrate နှင့် အရည်ဖလင်ကြားတွင် ဓာတုဗေဒဓာတ်ပြုမှု မလိုအပ်ပါ၊ ထို့ကြောင့် ၎င်း၏သက်ဆိုင်သောပစ္စည်းများကို ကန့်သတ်ထားသည်။
၁၉၉၁ ခုနှစ်တွင် K. Imen နှင့်အဖွဲ့သည် ရိုးရာသန့်ရှင်းရေးလုပ်ပြီးနောက် semiconductor wafers နှင့် သတ္တုများပေါ်တွင် ကျန်ရှိနေသော submicron ညစ်ညမ်းမှုများကို ကိုင်တွယ်ဖြေရှင်းခဲ့ကြသည်။ ၎င်းတို့သည် အောက်ခံများကို လေဆာစုပ်ယူသောဖလင်ဖြင့် အုပ်ထားပြီး CO₂ လေဆာဖြင့် ရောင်ခြည်ဖြင့် ထိတွေ့စေခဲ့သည်။ ဖလင်သည် စွမ်းအင်ကို စုပ်ယူကာ အလျင်အမြန်အပူပေးကာ ပြုတ်ကာ ပေါက်ကွဲစေသော အငွေ့ပျံခြင်းဖြစ်စဉ်ကို ခံယူကာ မျက်နှာပြင်ညစ်ညမ်းမှုများကို ဖယ်ရှားခဲ့သည် - ၎င်းသည် လေဆာစိုစွတ်သော သန့်ရှင်းရေးကို သတ်မှတ်ပေးသည်။
၃) လေဆာပလာစမာ ရှော့ခ်လှိုင်း သန့်ရှင်းရေး
လေဆာပလာစမာရှော့ခ်လှိုင်းများသည် ဓါတ်ရောင်ခြည်ဖြင့် ထိတွေ့စေစဉ်အတွင်း လေဆာများသည် လေကို လုံးဝိုင်းပလာစမာရှော့ခ်လှိုင်းများအဖြစ်သို့ အိုင်းယွန်းဓာတ်ပြုစေသောအခါ ဖြစ်ပေါ်လာသည်။ ဤရှော့ခ်လှိုင်းများသည် အောက်ခံများကို ထိမှန်ပြီး အောက်ခံကို မထိခိုက်စေဘဲ ညစ်ညမ်းပစ္စည်းများကို ဖယ်ရှားရန် စွမ်းအင်ကို ထုတ်လွှတ်သည် (လေဆာများသည် အောက်ခံများနှင့် တိုက်ရိုက် ဓာတ်ပြုခြင်းမရှိပါ)။ ဤနည်းပညာသည် နာနိုမီတာ ဆယ်ဂဏန်းအထိ သေးငယ်သော အမှုန်များကို သန့်စင်ပေးပြီး လေဆာလှိုင်းအလျားအပေါ် ကန့်သတ်ချက်မရှိပါ။
ပလာစမာ သန့်စင်ခြင်း၏ ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ အခြေခံမူများကို အောက်ပါအတိုင်း အကျဉ်းချုပ်ဖော်ပြထားပါသည်။
(က) လေဆာရောင်ခြည်များကို ပစ်မှတ်မျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ ညစ်ညမ်းအလွှာမှ စုပ်ယူသည်။
(ခ) မြင့်မားသော စွမ်းအင်စုပ်ယူမှုသည် အလျင်အမြန် ပြန့်ကားလာသော ပလာစမာ (အလွန်အမင်း အိုင်ယွန်ဓာတ်ပါဝင်သည့် မတည်ငြိမ်သော ဓာတ်ငွေ့) ကို ဖြစ်ပေါ်စေပြီး တုန်ခါမှုလှိုင်းများကို ဖြစ်ပေါ်စေသည်။
(ဂ) တုန်ခါလှိုင်းများသည် အညစ်အကြေးများကို အပိုင်းပိုင်းခွဲ၍ ဖယ်ရှားပေးသည်။
(ဃ) လေဆာ လှိုင်းတိုများသည် အောက်ခံအလွှာကို ပျက်စီးစေသည့် အပူစုပုံမှုကို ရှောင်ရှားရန် လုံလောက်သော တိုတောင်းရမည်။
(င) အောက်ဆိုဒ်များရှိနေချိန်တွင် သတ္တုမျက်နှာပြင်များပေါ်တွင် ပလာစမာပုံစံများကို စမ်းသပ်ချက်များအရ ပြသထားသည်။
ပလာစမာထုတ်လုပ်မှုသည် ဖယ်ရှားရမည့် ညစ်ညမ်းပစ္စည်း သို့မဟုတ် အောက်ဆိုဒ်အလွှာပေါ် မူတည်သည့် စွမ်းအင်သိပ်သည်းဆ ကန့်သတ်ချက်ထက်သာ ဖြစ်ပေါ်ပါသည်။ ဒုတိယမြင့်မားသော ကန့်သတ်ချက်တစ်ခုရှိပြီး ၎င်းထက်ကျော်လွန်၍ အောက်ခံအလွှာ ပျက်စီးသွားပါသည်။ အောက်ခံအလွှာကို မထိခိုက်စေဘဲ ထိရောက်စွာ သန့်ရှင်းရေးလုပ်နိုင်ရန်အတွက် လေဆာကန့်သတ်ချက်များကို ကန့်သတ်ချက်နှစ်ခုကြားတွင် pulse energy density ကို ထိန်းထားရန် ချိန်ညှိရပါမည်။
၂၀၀၁ ခုနှစ်တွင် JM Lee နှင့်အဖွဲ့သည် မြင့်မားသောပါဝါအာရုံစူးစိုက်ထားသောလေဆာများမှ ပလာစမာရှော့ခ်လှိုင်းများကို အသုံးချခဲ့သည်။ 2.0 J/cm² စွမ်းအင်သိပ်သည်းဆ (ဆီလီကွန်၏ပျက်စီးမှုကန့်သတ်ချက်ထက် များစွာကျော်လွန်သည်) ရှိသော ပဲ့တင်ထပ်လေဆာသည် ဆီလီကွန်ဝေဖာများကို တစ်ပြိုင်နက်တည်း ရောင်ခြည်ဖြင့် ထိတွေ့စေပြီး 1 μm တန်စတင်အမှုန်များကို အောင်မြင်စွာဖယ်ရှားခဲ့သည်။ တိတိကျကျပြောရလျှင် လေဆာပလာစမာရှော့ခ်လှိုင်းသန့်ရှင်းရေးသည် ခြောက်သွေ့စွာသန့်ရှင်းရေး၏ အစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။
အစပိုင်းတွင် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းဝေဖာများမှ အဏုကြည့်မှန်ပြောင်းဖြင့်သာမြင်နိုင်သော အမှုန်အမွှားများကို ဖယ်ရှားရန် တီထွင်ခဲ့သော ဤလေဆာသန့်ရှင်းရေးနည်းပညာသုံးမျိုးသည် တာယာမှိုသန့်ရှင်းရေး၊ လေယာဉ်အရေပြားဆေးသားဖယ်ရှားခြင်း၊ ယဉ်ကျေးမှုအမွေအနှစ်ပြန်လည်ထိန်းသိမ်းခြင်းနှင့် အခြားအရာများအထိ တိုးချဲ့ခဲ့သည်။ လေဆာဖြင့် ရောင်ခြည်ဖြင့် ထိတွေ့စေစဉ်အတွင်း စွန့်ထုတ်ထားသော ညစ်ညမ်းပစ္စည်းများကို ချက်ချင်းဖယ်ရှားရန် မလှုပ်ရှားနိုင်သောဓာတ်ငွေ့ကို အောက်ခံမျက်နှာပြင်များပေါ်သို့ မှုတ်ထုတ်နိုင်ပြီး ပြန်လည်ညစ်ညမ်းခြင်းနှင့် အောက်ဆီဒေးရှင်းဖြစ်ခြင်းကို ကာကွယ်ပေးသည်။
လေဆာသန့်ရှင်းရေးနည်းပညာ၏အသုံးချမှုများ
၁) တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းလုပ်ငန်း- တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းဝေဖာများနှင့် အလင်းအမှောင်အောက်ခံများကို သန့်ရှင်းရေးလုပ်ခြင်း
တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းဝေဖာများနှင့် အော့ပ်တီကယ်အောက်ဆိုဒ်များသည် လိုချင်သောပုံသဏ္ဍာန်များဖွဲ့စည်းရန် တူညီသော လုပ်ငန်းစဉ်အဆင့်များ (ဖြတ်တောက်ခြင်း၊ ကြိတ်ခြင်း) ကို လုပ်ဆောင်ကြပြီး ဖယ်ရှားရန်ခက်ခဲပြီး ပြန်လည်ညစ်ညမ်းလွယ်သော အမှုန်အမွှားညစ်ညမ်းမှုများကို ဖြစ်ပေါ်စေပါသည်။ ဝေဖာများပေါ်ရှိ ညစ်ညမ်းမှုများသည် ဆားကစ်ပုံနှိပ်ခြင်းအရည်အသွေးကို ထိခိုက်စေပြီး ချစ်ပ်များ၏သက်တမ်းကို တိုစေပါသည်။ အော့ပ်တီကယ်အောက်ဆိုဒ်များပေါ်တွင် ၎င်းတို့သည် အော့ပ်တီကယ်ကိရိယာနှင့် အပေါ်ယံလွှာစွမ်းဆောင်ရည်ကို ယိုယွင်းစေပြီး စွမ်းအင်ဖြန့်ဖြူးမှု မညီမညာဖြစ်စေပြီး ဝန်ဆောင်မှုသက်တမ်းကို လျော့ကျစေပါသည်။
အောက်ခံအလွှာပျက်စီးမှုအန္တရာယ်များကြောင့် လေဆာခြောက်သွေ့သန့်ရှင်းရေးကို ဤနေရာတွင် ရှားရှားပါးပါးသာအသုံးပြုကြပြီး အစိုသန့်ရှင်းရေးနှင့် ပလာစမာရှော့ခ်လှိုင်းသန့်ရှင်းရေးသည် အောင်မြင်သောအသုံးချမှုများစွာရှိသည်။ Xu Chuanyi နှင့်အဖွဲ့သည် အလွန်ချောမွေ့သော optical အောက်ခံအလွှာများပေါ်တွင် dielectric film အဖြစ် micron-scale magnetic paint ကို ထားရှိခဲ့ပြီး ထိရောက်သော pulsed laser သန့်ရှင်းရေးကို ရရှိစေခဲ့သည်။ စုစုပေါင်း မသန့်စင်သောအမှုန်များ တိုးလာသော်လည်း ၎င်းတို့၏ အရွယ်အစားနှင့် ဖုံးအုပ်မှုမှာ သိသိသာသာ လျော့နည်းသွားသည်။ Zhang Ping သည် အရွယ်အစားအမျိုးမျိုးရှိသော အမှုန်များအတွက် သန့်ရှင်းရေးစွမ်းဆောင်ရည်အပေါ် အလုပ်လုပ်သည့်အကွာအဝေးနှင့် လေဆာစွမ်းအင်၏ အကျိုးသက်ရောက်မှုများကို လေ့လာခဲ့သည်။ စမ်းသပ်ချက်များအရ 240 mJ လေဆာသည် 1.90 mm အလုပ်လုပ်သည့်အကွာအဝေးတွင် လျှပ်ကူးဖန်ပေါ်ရှိ polystyrene အမှုန်များကို အကောင်းဆုံးသန့်ရှင်းရေးလုပ်နိုင်ကြောင်း ပြသခဲ့သည်။ လေဆာစွမ်းအင်မြင့်မားလာသည်နှင့်အမျှ သန့်ရှင်းရေးစွမ်းဆောင်ရည် တိုးတက်လာပြီး ပိုကြီးသောအမှုန်များကို ဖယ်ရှားရန် ပိုမိုလွယ်ကူစေသည်။
၂) သတ္တုလုပ်ငန်း- သတ္တုမျက်နှာပြင် သန့်ရှင်းရေး
သတ္တုမျက်နှာပြင် သန့်ရှင်းရေးသည် မက်ခရိုစကုပ်ဖြင့် မြင်နိုင်သော ညစ်ညမ်းပစ္စည်းများကို ပစ်မှတ်ထားသည်- အောက်ဆိုဒ်/သံချေးအလွှာများ၊ ဆေးသား၊ အပေါ်ယံလွှာများနှင့် အခြားဆက်စပ်ပစ္စည်းများ၊ အော်ဂဲနစ် (ဆေးသား၊ အပေါ်ယံလွှာများ) သို့မဟုတ် အော်ဂဲနစ်မဟုတ်သော (သံချေး) ညစ်ညမ်းပစ္စည်းများအဖြစ် အမျိုးအစားခွဲခြားထားသည်။ သန့်ရှင်းရေးလုပ်ခြင်းသည် နောက်ဆက်တွဲ လုပ်ဆောင်မှု/အသုံးပြုမှု လိုအပ်ချက်များနှင့် ကိုက်ညီသည်- ဥပမာ- ဂဟေဆက်ခြင်းမပြုမီ တိုက်တေနီယမ်သတ္တုစပ်များမှ 10 μm အထူရှိသော အောက်ဆိုဒ်အလွှာများကို ဖယ်ရှားခြင်း၊ ပြန်လည်ဆေးသုတ်ရန်အတွက် လေယာဉ်အရေခွံများမှ ဆေးသားများကို ခွာချခြင်းနှင့် ထုတ်ကုန်အရည်အသွေးနှင့် မှိုသက်တမ်းကို သေချာစေရန် တာယာမှိုများမှ ရော်ဘာအကြွင်းအကျန်များကို သန့်စင်ခြင်း။
သတ္တုများတွင် ၎င်းတို့၏ ညစ်ညမ်းမှု သန့်ရှင်းရေး ကန့်သတ်ချက်များထက် ပျက်စီးမှု ကန့်သတ်ချက်များ ပိုမိုမြင့်မားသောကြောင့် သင့်လျော်သော ပါဝါပေးထားသော လေဆာများဖြင့် ထိရောက်စွာ သန့်ရှင်းရေးလုပ်နိုင်စေပါသည်။ ရင့်ကျက်သော အသုံးချမှုများတွင် အောက်ပါတို့ ပါဝင်သည်- Wang Lihua နှင့် အဖွဲ့သည် 5.1 J/cm² လေဆာသည် A5083-111H အလူမီနီယမ်သတ္တုစပ်မှ အောက်ဆိုဒ်အလွှာများကို ဖယ်ရှားပေးခြင်းဖြင့် အောက်ခံအရည်အသွေးကို ထိန်းသိမ်းပေးကြောင်းနှင့် 100 W pulsed laser သည် တိုက်တေနီယမ်သတ္တုစပ်အောက်ဆိုဒ်အလွှာများကို ထိရောက်စွာ သန့်စင်ပေးပြီး မျက်နှာပြင်မာကျောမှုကို မြှင့်တင်ပေးကြောင်း သရုပ်ပြခဲ့သည်။ ပြည်တွင်းထုတ်လုပ်သူများ (Raycus Laser၊ Han's Laser၊ Shenzhen Chuangxin) သည် ရော်ဘာမှိုများ၊ သတ္တုသံချေးနှင့် အစိတ်အပိုင်းဆီဖယ်ရှားခြင်းအတွက် လေဆာသန့်ရှင်းရေးပစ္စည်းများကို ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့် ထောက်ပံ့ပေးပါသည်။
၃) ယဉ်ကျေးမှု အမွေအနှစ်များ ထိန်းသိမ်းစောင့်ရှောက်ရေး- ယဉ်ကျေးမှု အမွေအနှစ်များနှင့် စက္ကူ ရှေးဟောင်းပစ္စည်းများ သန့်ရှင်းရေးလုပ်ခြင်း
သတ္တုနှင့် ကျောက်ယဉ်ကျေးမှု အမွေအနှစ်များသည် အချိန်ကြာလာသည်နှင့်အမျှ အညစ်အကြေး၊ မင်အစွန်းအထင်းများနှင့် အခြားညစ်ညမ်းပစ္စည်းများ စုပုံလာပြီး မူလအသွင်အပြင်ကို ပြန်လည်ရရှိစေရန် ဖယ်ရှားရန် လိုအပ်ပါသည်။ စက္ကူပစ္စည်းများ (ပန်းချီကားများ၊ လက်ရေးလှရေး) သည် မသင့်လျော်သော သိုလှောင်မှုအတွင်း မှိုနှင့် ကမ္ပည်းများ ဖြစ်ပေါ်လာပြီး ၎င်းတို့၏ အခြေအနေနှင့် ယဉ်ကျေးမှု/သမိုင်းဝင်တန်ဖိုးကို ပြင်းထန်စွာ ထိခိုက်စေပါသည်။
Zhao Ying နှင့်အဖွဲ့သည် ဆန်စက္ကူပေါ်ရှိ မှိုပြားများကို UV လေဆာဖြင့် သန့်စင်ခြင်းကို အတည်ပြုခဲ့သည်- 3.2 J/mm² ဖြင့် တစ်ကြိမ်စကင်ဖတ်ခြင်းသည် ပါးလွှာသော မှိုပြားများကို ဖယ်ရှားပေးခဲ့ပြီး နှစ်ကြိမ်စကင်ဖတ်ခြင်းသည် လုံးဝဖယ်ရှားပေးခဲ့သည်။ အလွန်အကျွံလေဆာစွမ်းအင်သည် စက္ကူကို ပျက်စီးစေခဲ့သည်။ Zhang Xiaotong သည် လေဆာစိုနည်းလမ်းကို အသုံးပြု၍ ရွှေချထားသော ကြေးဝါရှေးဟောင်းပစ္စည်းကို အောင်မြင်စွာ ပြန်လည်ထိန်းသိမ်းခဲ့သည်။ Zhang Licheng သည် ဟန်မင်းဆက်မှ ဆေးသုတ်ထားသော အမျိုးသမီးမြေအိုးရုပ်တုကို လေဆာဖြင့် သန့်စင်ခဲ့သည်။ Yuan Xiaodong နှင့်အဖွဲ့သည် ကျောက်ကြွင်းအကျန်များအတွက် လေဆာသန့်စင်ခြင်း၏ ထိရောက်မှုကို သဲကျောက်ပေါ်ရှိ မင်၊ မီးခိုးနှင့် ဆေးအစွန်းအထင်းများအတွက် အောက်ခံပျက်စီးမှုနှင့် ဖယ်ရှားခြင်း၏ ထိရောက်မှုကို နှိုင်းယှဉ်ခဲ့သည်။
နိဂုံးချုပ်
လေဆာသန့်ရှင်းရေးသည် အာကာသ၊ စစ်ဘက်ဆိုင်ရာပစ္စည်းကိရိယာများ၊ အီလက်ထရွန်းနစ်နှင့် အခြားမြင့်မားသောတိကျမှုနယ်ပယ်များတွင် ကျယ်ပြန့်သောသုတေသနနှင့် အသုံးချမှုအလားအလာများရှိသော အဆင့်မြင့်နည်းပညာတစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်း၏ထိရောက်မှု၊ ပတ်ဝန်းကျင်နှင့်သဟဇာတဖြစ်မှုနှင့် သာလွန်ကောင်းမွန်သော သန့်ရှင်းရေးရလဒ်များကြောင့် စက်မှုလုပ်ငန်းများစွာတွင် ရင့်ကျက်လာပြီး ၎င်း၏အသုံးချမှုများကို ဆက်လက်တိုးချဲ့လျက်ရှိသည်။ တည်ရှိပြီးသော ဆေးနှင့်သံချေးဖယ်ရှားခြင်းအပြင်၊ မကြာသေးမီကတိုးတက်မှုများတွင် သတ္တုဝါယာကြိုးများပေါ်ရှိ အောက်ဆိုဒ်အလွှာများကို လေဆာဖြင့် သန့်ရှင်းရေးလုပ်ခြင်း ပါဝင်သည်။ အနာဂတ်ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုတွင် လက်ရှိအသုံးချမှုများကို တိုးချဲ့ခြင်း၊ နယ်ပယ်အသစ်များသို့ ဝင်ရောက်ခြင်းနှင့် ပစ္စည်းကိရိယာများကို တီထွင်ဆန်းသစ်ခြင်းအပေါ် မူတည်သည်-
- လက်တွေ့အသုံးချမှုများကို လမ်းညွှန်ရန်အတွက် သီအိုရီဆိုင်ရာ သုတေသနကို အားကောင်းစေပါ။ လက်ရှိသုတေသနသည် ရင့်ကျက်သော သီအိုရီဆိုင်ရာ မူဘောင်မရှိသော စမ်းသပ်ချက်များအပေါ် များစွာမှီခိုနေရသည်။ ထိုကဲ့သို့သော မူဘောင်တစ်ခု ထူထောင်ခြင်းသည် နည်းပညာရင့်ကျက်မှုအတွက် အလွန်အရေးကြီးပါသည်။
- လက်ရှိနှင့် နယ်ပယ်အသစ်များတွင် အသုံးချမှုများကို တိုးချဲ့ပါ။ ဆေး/သံချေးဖယ်ရှားခြင်းတွင် ရင့်ကျက်လာပြီး၊ ပေါ်ပေါက်လာသော အသုံးပြုမှုများတွင် သတ္တုဝါယာကြိုးအောက်ဆိုဒ် သန့်စင်ခြင်း ပါဝင်ပြီး ကြီးထွားမှုအတွက် မြေဩဇာကောင်းသော နေရာတစ်ခု ပံ့ပိုးပေးပါသည်။
- ဘက်စုံသုံး ကိရိယာတန်ဆာပလာများ (ဥပမာ- ပေါင်းစပ်ဆေး/သံချေးဖယ်ရှားခြင်း) နှင့် အထူးပြုကိရိယာများ (ဥပမာ- ကျဉ်းကျပ်သောနေရာများအတွက် စိတ်ကြိုက်တပ်ဆင်ပစ္စည်းများ/ဖိုက်ဘာများ) အဖြစ်သို့ ကွဲပြားသွားသည့် လေဆာသန့်ရှင်းရေးကိရိယာအသစ်များ တီထွင်ထုတ်လုပ်ပါ။ စက်မှုလုပ်ငန်းသုံးရိုဘော့များနှင့် ပေါင်းစပ်ခြင်းဖြင့် အပြည့်အဝအလိုအလျောက်လုပ်ဆောင်ခြင်းသည် အလားအလာကောင်းသော ဦးတည်ချက်တစ်ခုဖြစ်သည်။
ပို့စ်တင်ချိန်: ၂၀၂၆ ခုနှစ်၊ မေလ ၁၄ ရက်
